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微型光譜儀使用中的誤差有什么
微型光譜儀可以檢測到元素周期表中90%以上的元素，這些元素覆蓋了我國商用發(fā)展以及合金等應用區(qū)域。主要是根據物質的光譜來鑒別物質及確定它的化學組成和相對含量，其優(yōu)點是靈敏、方便、快捷。曾通過光譜分析發(fā)現許多新元素，如銣，銫，氦等。
隨著現代焊接技術的發(fā)展，對焊接質量檢測與控制越來越重要。焊接電弧光譜由于其自身信息量大、信噪比高、介入性小、測控精度高等特點，在一些場合得到成功應用。電弧光譜的應用領域包括：電弧防護、光譜法測定電弧的溫度場、氣體成分及濃度的測定與控制等。因此對于不同焊接參數下電弧光譜輻射及其變化特點的研究非常重要。
焊接光譜信息的采集和分析系統(tǒng)建議使用高分辨率、多通道光纖光譜儀，波長范圍200-1100 nm，光譜分辨率(FWHM)最高可達0.05-0.06 nm，光譜采樣間隔約0.02 nm。一分多光纖保證了光譜信號采集在時間和空間上的同步性。
根據微型光譜儀誤差的性質及產生原因，誤差可分為下面幾種：
1.系統(tǒng)誤差的來源
(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
(2)標樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產生系統(tǒng)誤差。
(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。
(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
2.偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：
(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。
(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。
3.其他因素誤差
(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結果會變差。
(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現象，使分析結果不穩(wěn)定。
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